2026年2月19日（木曜）に第96回国際交流セミナーを開催しました．

講師：
Chun Liang Lin 准教授
（台湾・陽明交通大学）

演題：
"Characterization of Interfaces between Contact Metals and Monolayer 2D Semiconductor"

講演内容：

ご講演では、2次元半導体材料と金属電極の界面における構造や相互作用に関するご研究の成果をご紹介いただきました。現代社会において欠かすことのできない半導体デバイスでは、一つ一つの素子のサイズがナノメートルスケールにまで微細化され、加工技術や動作性能の限界に近付きつつあります。こうした限界を打破する方策の一つとして、主要材料であるシリコンを2次元原子層材料で置き換えることが注目されています。ご講演では、このような半導体デバイス産業におけるトレンドを概観していただいた後に、有力な原子層材料である遷移金属カルコゲナイドの構造や物性、及び金属電極との接合界面に関する電気的特性などについて研究事例を説明していただくとともに、今後の展望を示していただきました。

セミナーの様子

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