中村 敏浩 (なかむら としひろ)教授
| 研究科: 専攻等/講座 | 人間・環境学/物質科学 |
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| 学部: 講座 (学系) | |
| 所属機関/部局 | 国際高等教育院 |
| 電子メール | nakamura.toshihiro.5m(_at_)kyoto-u.ac.jp (Replace (_at_) with @.) |
| 個人ページ | Website |
| 研究分野 | 薄膜プロセス、電子材料・デバイス、プラズマ化学、分子分光学 |
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| キーワード | プラズマプロセス、半導体材料・デバイス、酸化物エレクトロニクス、不揮発性メモリー、透明導電膜、スピントロニクス、気液界面プラズマ、炭素固定、窒素固定 |
| 研究テーマ | (1) 環境負荷の小さい次世代半導体材料・デバイスの作製と評価 (2) 次世代低消費エネルギー不揮発性抵抗変化メモリーのための材料開発 (3) 新規透明導電膜を用いたフレキシブルデバイスの開発 (4) プラズマ化学反応による新奇物質合成・変換技術の開発 (5) プラズマによる新規炭素固定技術・窒素固定技術の開発 (6) 気液界面プラズマの農業・医療応用 |
| 代表的著書,論文等 | (1) Sn-doping concentration dependence of electrical, optical, and magnetic properties in epitaxial Mn-doped indium tin oxide films deposited by RF magnetron sputtering S. Kitagawa and T. Nakamura, Journal of Vacuum Science & Technology A, 43(2), 023409-1-11 (2025). (2) Carrier concentration dependence of optical and magnetic properties in epitaxial manganese-doped indium tin oxide films with different manganese concentrations S. Kitagawa and T. Nakamura, Current Applied Physics, 69, 60-69 (2025). (3) Anomalous Carrier Enhancement with Lightly Mn Doping in Indium–Tin Oxide Thin Films Studied by Hard X-ray Photoemission Spectroscopy N. Tsutsumi, D. Ootsuki, T. Ishida, T. Yoshida, Y. Takeda, A. Yasui, S. Kitagawa, and T. Nakamura Journal of the Physical Society of Japan, 93, 104801-1-6 (2024). (4) Sputter epitaxy and characterization of manganese-doped indium tin oxide films with different crystallographic orientations S. Kitagawa and T. Nakamura Journal of Applied Physics, 134(16), 165302-1-11 (2023). (5) Effect of Mn substitution on the electronic structure for Mn-doped indium-tin oxide films studied by soft and hard x-ray photoemission spectroscopy D. Ootsuki, T. Ishida, N. Tsutsumi,M. Kobayashi, K. Inagaki, T. Yoshida, Y. Takeda, S. Fujimori, A. Yasui, S. Kitagawa, and T. Nakamura Physical Review Materials, 7(12), 124601-1-6 (2023). (6) Oxidation processes of NO for production of reactive nitrogen species in plasma activated water K. Tachibana, J. -S. Oh, and T. Nakamura Journal of Physics D: Applied Physics, 53(38), 385202-1-14 (2020). (7) Comparative study of discharge schemes for production rates and ratios of reactive oxygen and nitrogen species in plasma activated water K. Tachibana and T. Nakamura Journal of Physics D: Applied Physics, 52(38), 385202-1-17 (2019). (8) Local structure analysis of magnetic transparent conducting films by x-ray spectroscopy T. Nakamura Journal of Physics D: Applied Physics, 49(4), 045005-1-5 (2016). (9) Isotopic study on metalorganic chemical vapor deposition of manganite films T. Nakamura Surface & Coatings Technology, 230, 213-218 (2013). (10) Thin film deposition of metal oxides in resistance switching devices: electrode material dependence of resistance switching in manganite films T. Nakamura, K. Homma, and K. Tachibana Nanoscale Research Letters, 8(1), 76-1-7 (2013). |
| 所属学会,その他の研究活動等 | 応用物理学会、The Electrochemical Societyなど |
| 担当授業 |
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| 経歴等 | 学歴 1991年 京都大学理学部卒業 1993年 京都大学大学院理学研究科修士課程(化学専攻)修了 1996年 京都大学大学院理学研究科博士後期課程(化学専攻)修了 博士(理学) 職歴(大学院担当歴) 1996年 京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻 助手 2002年 京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻 講師 2003年 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻 講師 2013年 大阪電気通信大学大学院工学研究科先端理工学専攻 准教授 2018年 大阪電気通信大学大学院工学研究科先端理工学専攻 教授 2019年 京都大学大学院人間・環境学研究科相関環境学専攻 教授 2023年 京都大学大学院人間・環境学研究科人間・環境学専攻物質科学講座 教授 |