中村 敏浩 (なかむら としひろ)教授
研究科: 専攻等/講座 | 人間・環境学/物質科学 |
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学部: 講座 (学系) | |
所属機関/部局 | 国際高等教育院 |
電子メール | nakamura.toshihiro.5m(_at_)kyoto-u.ac.jp (Replace (_at_) with @.) |
個人ページ | Website |

研究分野 | 薄膜プロセス、電子材料・デバイス、プラズマ化学、分子分光学 |
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キーワード | プラズマプロセス、半導体材料・デバイス、酸化物エレクトロニクス、不揮発性メモリー、透明導電膜、スピントロニクス、気液界面プラズマ、炭素固定、窒素固定 |
研究テーマ | (1) 環境負荷の小さい次世代半導体材料・デバイスの作製と評価 (2) 次世代低消費エネルギー不揮発性抵抗変化メモリーのための材料開発 (3) 新規透明導電膜を用いたフレキシブルデバイスの開発 (4) プラズマ化学反応による新奇物質合成・変換技術の開発 (5) プラズマによる新規炭素固定技術・窒素固定技術の開発 (6) 気液界面プラズマの農業・医療応用 |
代表的著書,論文等 | (1) Sputter epitaxy and characterization of manganese-doped indium tin oxide films with different crystallographic orientations S. Kitagawa and T. Nakamura Journal of Applied Physics, 134(16), 165302-1-11 (2023). (2) Effect of Mn substitution on the electronic structure for Mn-doped indium-tin oxide films studied by soft and hard x-ray photoemission spectroscopy D. Ootsuki, T. Ishida, N. Tsutsumi,M. Kobayashi, K. Inagaki, T. Yoshida, Y. Takeda, S. Fujimori, A. Yasui, S. Kitagawa, and T. Nakamura Physical Review Materials, 7(12), 124601-1-6 (2023). (3) Oxidation processes of NO for production of reactive nitrogen species in plasma activated water K. Tachibana, J. -S. Oh, and T. Nakamura Journal of Physics D: Applied Physics, 53(38), 385202-1-14 (2020). (4) Examination of UV-absorption spectroscopy for analysis of O3, NO2-, and HNO2 compositions and kinetics in plasma-activated water K. Tachibana and T. Nakamura Japanese Journal of Applied Physics, 59(5), 056004-1-7 (2020). (5) Comparative study of discharge schemes for production rates and ratios of reactive oxygen and nitrogen species in plasma activated water K. Tachibana and T. Nakamura Journal of Physics D: Applied Physics, 52(38), 385202-1-17 (2019). (6) Characterization of dielectric barrier discharges with water in correlation to productions of OH and H2O2 in gas and liquid phases K. Tachibana and T. Nakamura Japanese Journal of Applied Physics, 58(4), 046001-1-11 (2019). (7) Local structure analysis of magnetic transparent conducting films by x-ray spectroscopy T. Nakamura Journal of Physics D: Applied Physics, 49(4), 045005-1-5 (2016). (8) Spectroscopic ellipsometry analysis of perovskite manganite films for resistance switching devices M. Yamada, O. Sakai, and T. Nakamura Thin Solid Films, 571, 597-600 (2014). (9) Isotopic study on metalorganic chemical vapor deposition of manganite films T. Nakamura Surface & Coatings Technology, 230, 213-218 (2013). (10) Thin film deposition of metal oxides in resistance switching devices: electrode material dependence of resistance switching in manganite films T. Nakamura, K. Homma, and K. Tachibana Nanoscale Research Letters, 8(1), 76-1-7 (2013). |
所属学会,その他の研究活動等 | 応用物理学会、The Electrochemical Societyなど |
担当授業 |
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経歴等 | 学歴 1991年 京都大学理学部卒業 1993年 京都大学大学院理学研究科修士課程(化学専攻)修了 1996年 京都大学大学院理学研究科博士後期課程(化学専攻)修了 博士(理学) 職歴(大学院担当歴) 1996年 京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻 助手 2002年 京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻 講師 2003年 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻 講師 2013年 大阪電気通信大学大学院工学研究科先端理工学専攻 准教授 2018年 大阪電気通信大学大学院工学研究科先端理工学専攻 教授 2019年 京都大学大学院人間・環境学研究科相関環境学専攻 教授 2023年 京都大学大学院人間・環境学研究科人間・環境学専攻物質科学講座 教授 |